热门关键词 : 制药纯化水设备 制剂纯化水设备 医疗器械清洗纯化水设备 日用化妆品纯化水设备 纯化水工程案例
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怎么选择纯化水设备系统清洗液?
常规清洗液配方提供的清洗溶液是将一定重量的化学药品加入到100加仑(379升)的洁净水中(RO产品水或不含游离氯的水)。溶液是按所用化学药品和水量的比例配制的。溶剂是RO产品水或去离子水,无游离氯和硬度。清洗液进入膜元件之前,要求彻底混和均匀,并按照目标值调pH值且按目标温度值稳定温度。常规的清洗方法基于化学清洗溶液循环清洗一小时和一种任选的化学药剂浸泡一小时的操作而设定的。
常规清洗液配方(以100加仑,即379升为基准)
清洗液主要组份有药剂量、清洗液、pH值、最高清洗液温度
1、氢氧化钠(100%粉末) 或(50%液体)
0.83磅(0.38公斤) 0.13加仑(0.5升)
缓慢加入氢氧化钠调节pH至11.5,调低pH时用盐酸
30℃
2、柠檬酸(100%粉末)
17.0磅(7.7公斤)
用氨水调节pH至3.0~4.0
40℃
3、盐酸(HCl)(密度22波美度或浓度36%)
0.47加仑(1.8升)
缓慢加入盐酸调节pH至2.5,调高pH用氢氧化钠
35℃
常规清洗液介绍
溶液1
0.5%(W)盐酸低pH清洗液,主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等),金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等),及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些,因为盐酸(HCl)是强酸。
溶液2
0.1%(W)氢氧化钠高pH清洗液。用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。
溶液3
2.0%(W)柠檬酸(C6H8O7)的低pH清洗液。用于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)、金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
以上就是小编为大家介绍的关于纯化水设备系统清洗液的选择介绍,对于纯化水设备小编还建议大家了解一下纯化水设备系统化学清洗方法,以便更好地了解纯化水设备的使用。